SAN JOSÉ, California – NVIDIA (NASDAQ:NVDA) anunció una asociación con Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) y Synopsys para implementar su plataforma de litografía computacional, NVIDIA cuLitho. , que está en producción. El objetivo de esta colaboración es optimizar el proceso de fabricación de chips semiconductores avanzados.
La integración cuLitho de NVIDIA con los sistemas TSMC y Synopsys mejorará la fabricación de chips y admitirá las próximas GPU de arquitectura Blackwell de NVIDIA. Jensen Huang, director ejecutivo de NVIDIA, señaló que esta colaboración aprovecha la aceleración informática y la inteligencia artificial para avanzar en la escala de los semiconductores. La litografía computacional, un componente clave en la fabricación de chips, ha sido tradicionalmente una tarea que requiere un uso intensivo de la CPU y vastos recursos informáticos.
NVIDIA afirma que el uso de una plataforma de aceleración GPU puede reducir significativamente el tiempo y los recursos necesarios para este proceso. Por ejemplo, según la empresa, 350 sistemas NVIDIA H100 pueden sustituir hasta 40.000 procesadores. TSMC informó importantes mejoras de rendimiento, mayor rendimiento y menores requisitos de energía al integrar la computación acelerada por GPU en su flujo de trabajo.
Dr. CC. Wei, director ejecutivo de TSMC, dijo que aprovechar NVIDIA cuLitho es fundamental para escalar los semiconductores.
Synopsys también se beneficia de esta asociación, ya que los productos de software de síntesis de máscaras Proteus se ejecutan en la plataforma NVIDIA para acelerar las cargas de trabajo computacionales. Sassine Ghazi, presidente y director ejecutivo de Synopsys, enfatizó la importancia de esta colaboración para permitir el escalamiento a nivel de angstrom y reducir los tiempos de entrega. NVIDIA ha introducido nuevos algoritmos de IA generativa que mejoran aún más la plataforma cuLitho, ofreciendo una aceleración 2x para procesos acelerados.
Este flujo de trabajo impulsado por IA le permite crear máscaras inversas casi perfectas, lo que puede agilizar el proceso de corrección óptica de proximidad (OPC). La integración de cuLitho en la fabricación es otro paso para satisfacer las demandas informáticas y la creciente complejidad de la fabricación de semiconductores avanzados. Se espera que esta cooperación facilite el desarrollo de nuevas tecnologías para chips a escala de 2 nm y superiores.
Este anuncio se basa en un comunicado de prensa de NVIDIA.
