AMSTERDAM: ASML, el mayor proveedor de equipos para fabricantes de chips de computadora, anunció hoy miércoles que envió uno de sus nuevos sistemas de litografía EUV High NA a un segundo cliente. ASML, que envió la herramienta de alta NA a Intel en diciembre-enero, no identificó al segundo cliente. Los clientes potenciales podrían incluir al fabricante de chips TSMC, que fabrica chips para Nvidia y Apple, o Samsung.
Estas máquinas cuestan alrededor de 350 millones de euros cada una y crearán nuevas generaciones de chips más pequeños y rápidos. La venta se reveló junto con los resultados del primer trimestre de ASML que superaron las expectativas. TSMC y Samsung han anunciado planes para adoptar el nuevo sistema, que se espera que aumente significativamente la cantidad de transistores que se pueden empaquetar en un chip.
Intel ha anunciado que comenzará a utilizar herramientas de alta NA en las primeras etapas de producción en 2026-2027 con sus chips de la serie 14A. La primera máquina High NA se ensambló en la sede de ASML en Veldhoven, Países Bajos, donde las empresas que adoptan la tecnología EUV pueden acceder a ella para realizar pruebas. La empresa dijo que tiene pedidos de 10 a 20 máquinas.
El sistema de litografía utiliza un haz de luz para crear los circuitos del chip. La primera generación de sistemas EUV de ASML, que ahora se utiliza para producir la mayoría de los chips de inteligencia artificial y teléfonos inteligentes, utiliza luz en longitudes de onda ultravioleta para crear características de diseño de alta resolución de hasta 13 nanómetros, más pequeñas que los virus. La compañía dijo en un artículo y una fotografía publicados el miércoles en X que la máquina High NA produjo con éxito funciones de 10 nanómetros.
Según el sitio web de ASML, el límite teórico de la máquina es de 8 nanómetros.
